|
Hírek
|
|
2009. december 09. szerda, 18:01 |
|
Új kiállítás japánban
A főként akkumulátorok élettartamával kapcsolatosan emlegetett CIPA 2010-től saját fotóipari kiállítást rendez.
A CIPA, a japán fotóiparban érdekelt cégek által alapított szervezet, most saját kiállítással bővíti tevékenységi körét. A hír azért igazán érdekes, mert a fotóipar számára ma a japán gyártó és fejlesztő cégek talán a legmeghatározóbbak, és az általuk alapított CIPA már eddig is meghatározó volt számos szabvány megfogalmazásában illetve az egyébként versengésben érdekelt cégek összefogásában.
Az elmúlt hónapokban egyre több fotós cég jelezte, hogy jövőre már nem kíván megjelenni az amúgy jó nevű CES-en, mivel ott az egyéb elektronikai cikkek és technológiák mellett nem kapnak elegendő figyelmet. A CES kihagyásának okai között fontos az is, hogy a Las Vegasban megtartott rendezvény után kevesebb mint két hónappal, ugyanitt kerül megrendezésre a kifejezetten a fotóiparra koncentráló PMA is.
A CIPA Expo a PMA után kevesebb mint egy hónappal veszi kezdetét. Ez bár közeli időpont, a nyári szezonra készülő, új termékeket szinte futószalagon bejelentő gyártók számára azonban még így is vonzó lehet. Különösen azért, mert ez a kiállítás Yokohama-ban kerül megrendezésre, vagyis kiválóan kiszolgálhatja az ázsiai piac igényeit.
A 2010-es év kiállítások szempontjából mozgalmasnak ígérkezik, hiszen a minden évben megrendezésre kerülő PMA és az új CIPA Expo mellett a minden második évben Kölnben megtartott Photokina is színesíti az év kínálatát.
|
